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IC制造中真实缺陷轮廓模型的比较 |
姜晓鸿; 郝跃; 许冬岗; 徐国华 |
西安电子科技大学微电子研究所 西安 710071 |
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COMPARISON OF MODELS OF REAL DEFECT OUTLINES IN THE IC MANUFACTURING PROCESS |
Jiang Xiaohong; Hao Yue; Xu Donggang; Xu Guohua |
Xidian University Xi'an 710071 |
[1] |
孙晓丽; 郝跃; 宋国乡. IC缺陷轮廓多分形特征研究[J]. 电子与信息学报, 2007, 29(2): 496-498 . |
[2] |
姜晓鸿; 赵天绪; 郝跃; 徐国华. IC缺陷轮廓的分形插值模型[J]. 电子与信息学报, 2000, 22(4): 659-666 . |
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